Praktische kontinuierliche Durchfluss-Abfangmetallierungen funktionalisierter Arene und Heteroarene mit TMPLi in Gegenwart von Mg-, Zn-, Cu- oder La-Halogeniden†
Matthias R. Becker
Ludwig-Maximilians-Universität München, Department Chemie, Butenandtstraße 5–13 (Haus F), 81377 München (Deutschland)
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Prof. Dr. Paul Knochel
Ludwig-Maximilians-Universität München, Department Chemie, Butenandtstraße 5–13 (Haus F), 81377 München (Deutschland)
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Ludwig-Maximilians-Universität München, Department Chemie, Butenandtstraße 5–13 (Haus F), 81377 München (Deutschland)Search for more papers by this authorWir danken der DFG (SFB 749 und DIP) für finanzielle Unterstützung. Zudem danken wir der Rockwood Lithium GmbH (Frankfurt) und der BASF AG (Ludwigshafen) für die großzügige Bereitstellung von Chemikalien.
Abstract
Es wird die Durchflussmetallierung verschiedener Arene und Heteroarene durch In-situ-Abfangen mit Metallsalzen (ZnCl2⋅2 LiCl, MgCl2, CuCN⋅2 LiCl, LaCl3⋅2 LiCl) unter sehr zweckmäßigen Bedingungen (0 °C, 40 s) beschrieben. Die entstehenden Mg-, Zn-, Cu- oder La-organischen Spezies werden mit verschiedenen Elektrophilen in hohen Ausbeuten abgefangen. In mehreren Fällen werden ungewöhnliche kinetische Regioselektivitäten erzielt. Die Durchflussmetallierungen werden ohne weitere Optimierung schlicht durch Verlängerung der Reaktionszeit skaliert. Verglichen mit den entsprechenden Batch-Prozessen werden die Anwendungsmöglichkeiten durch solche Flussmetallierungen beträchtlich erweitert.
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