PVD-Sputteranlagen im ständigen Wandel
Anforderungen und Lösungskonzepte für flexible Inline-Anlagen mittlerer Substratgrößen
Dr. Ulf Seyfert:
Jahrgang 1962, Promotion in Werkstoffwissenschaft an der TU Dresden. Seit 1998 bei der VON ARDENNE GmbH in verschiedenen Positionen im Entwicklungsbereich für Elektronenstrahl- und Plasmaverfahren tätig, derzeit verantwortlich für die Forschungs- und Entwicklungskooperation.
Uwe Heydenreich:
Jahrgang 1966, Studium der Physik an der TU Dresden. Verschiedene Stationen in den Bereichen Entwicklung und Vertrieb in der Halbleiterindustrie sowie im Anlagenbau. Werkleiter in der Dünnschicht-Silizium-Photovoltaik sowie Geschäftsführer eines Dresdner Vakuumanlagenbauers. Seit 2017 Vice President Modular Process Systems bei VON ARDENNE. Vorstandvorsitzender der Europäischen Forschungsgesellschaft Dünne Schichten (EFDS).
Zusammenfassung
deDas Magnetronsputtern bietet aufgrund der Vielzahl von Verfahrensvariationen und verwendbaren Schichtmaterialien und -kombinationen breite Anwendungsmöglichkeiten in der Industrie. Einen starken Treiber für neue Anwendungen stellt derzeit die Autoindustrie mit dem Fokus auf Elektromobilität dar. Zunehmende technische Anforderungen und steigender Kostendruck müssen in wirtschaftlich tragfähige Anlagenkonzepte übersetzt werden. In dem Artikel werden verschiedene Grundprinzipien der Abscheidung bei Inline- und BatchAnlagen für das Magnetron-Sputtern erläutert, beispielhaft einige Anwendungen und deren Anforderungen beschrieben und ein daraus abgeleitetes Konzept für eine Inline-Magnetron-Sputteranlage vorgestellt.
Summary
enPVD sputter systems in continuous evolution
Due to the large number of process variations and usable layer materials and their combinations, magnetron sputtering offers a wide range of applications in the industry. The automotive industry, with its focus on electromobility is currently a strong driver for new applications. Increasing technical requirements and the rising cost pressure must be translated into economically viable system concepts. In this article, various basic deposition principles of deposition in inline and batch coaters for magnetron sputtering are explained. Furthermore, some applications and their requirements are described, and a concept derived from this for an inline magnetron sputtering system is presented.
