Electrical Resistivity of Ultra-Thin Films
Pomorska 149/153, PL-90-238 Łódź, Poland.
Abstract
enThe paper is devoted to a numerical study of the dc electrical conductivity for ultra-thin metallic films. The cluster approach of Stein and Krey based on the quantum-mechanical Kubo formula is employed. The dc conductivity is obtained as a function of film roughness and thickness. The results indicate how the experimentally observed decrease and the 1 ML period of the resistivity vs. thickness curve can be related to the properties of the film surface.
Abstract
deNumerische Berechnungen werden durchgeführt, um die statische elektrische Leitfähigkeit sehr dünner Metallschichten zu bestimmen. Es wird die von Stein und Krey vorgeschlagene, auf der quantenmechani-schen Kubo-Formel basierende “Cluster”-Methode angewandt. Der elektrische Widerstand wird als Funktion der Oberflächenrauhigkeit und Schichtdicke erhalten. Die Resultate zeigen, wie die im Experiment beobachtete Abnahme und Periodizität des dickenabhängigen Widerstands auf Eigen-schaften der Oberfläche bezogen werden können.
