Magnetic Structures and Stresses in Thin Films I. Ferromagnetic Resonance Experiments
Abstract
enThe ferromagnetic resonance (FMR) on Ni, Fe and epitaxial Ni/Fe thin films (thickness DM = 2.4-50 monolayers) was investigated under UHV conditions. Resonance field, lineshape, linewidth and absorbed microwave power were recorded for different film thicknesses, temperatures and deposition rates during film preparation and for different annealing procedures. The effect of H2 chemisorption on the FMR-parameters of Ni was studied as a function of coverage θ (θmax = 0.3) after different high temperature pretreatments of the film. A phenomenological discussion of FMR results is given taking into consideration corresponding geometric film structures.
Abstract
deUntersuchungen der Ferromagnetischen Resonanz (FMR) dünner Ni-, Fe- und epitaktischer Ni/Fe-Schichten wurden unter UHV-Bedingungen bei Schichtdicken zwischen 2,4 und 50 Monolagen durchgeführt. Dazu wurden Resonanzfeldstärke, Linienform, Linienbreite und absorbierte Mikrowellenleistung für verschiedene Schichtdicken, Temperaturen sowie Aufdampfraten bei der Filmherstellung und für unterschiedliche Temperbedingungen aufgenommen. H2-Chemisorption wurde mit der FMR als Funktion der Bedeckung (θH < 0,3) nach unterschiedlichen Temperbedingungen verfolgt. – Die FMR-Ergebnisse an Filmen unterschiedlicher geometrischer Struktur werden phänomenologisch diskutiert.