High precision optical filter based on magnetron sputtering
Direct coating on glass and silicon wafers
Jens-Peter Biethan: studied electrical engineering and received his PhD from the Technical University of Darmstadt/Germany in the department of High Frequency Electronics in 2013. He focused his research on ZnO MOCVD deposition and applications of II-VI semiconductors for high frequency devices and sensors. Afterwards he worked on epitaxial growth of SiGe layers for 28nm CMOS technology development. He joined Bühler in 2016 and is working in the R&D department focusing on sputtering technology and applications for precision optics.
Detlef Arhilger:
Jürgen Pistner:
Holger Reus:
Martin Stapp:
Harro Hagedorn:
Summary
enCurrent and upcoming specifications for optical filters and components are driving the demand for optimized deposition techniques. Besides the need for high precision process control to achieve accurate and reproducible layer properties, additional requirements from a process automation perspective have to be considered. In particular, applications in the semiconductor industry require reliable, accurate substrate handling to microelectronic standards.
The Helios 800 sputtering system provides extremely accurate layer depositon and thickness control, allowing manufacture of state of the art optical components with high throughput. These include beamsplitters, band pass, edge, and multinotch dielectric filters. In addition optoelectronic applications, which combine electronic components with optical filters, are growing rapidly.
Zusammenfassung
deOptische Filter höchster Präzision mittels Magnetronsputtern – Direktbeschichtung von Glas und Si-Wafern
Anwendungen im Bereich aktueller und auch zukünftiger optischer Filter und Komponenten stellen große Herausforderungen an die heutigen Beschichtungstechnologien dar. Neben den Erfordernissen einer erhöhten Prozesskontrolle und reproduzierbarer hoch präziser Schichtdickenabscheidung sind zunehmend auch praktische Aspekte etwa aus dem Bereich der Prozessautomatisierung von Bedeutung. Insbesondere Applikationen aus dem Bereich der Halbleiterfertigung verlangen ein zuverlässiges und genaues Substrat Handling bei einer gleichzeitigen Kompatibilität mit den in der Mikroelektronik etablierten Standards.
Das Helios 800 Sputtersystem erlaubt die hochpräzise Herstellung dieser optischen Komponenten bei einem gleichzeitig hohem Durchsatz. Typische Anwendungen sind Strahlteiler, Bandpass oder auch dielektrische Filter. Zunehmende Bedeutung erlangen Filter im Bereich der Optoelektronik. Insbesondere Anwendungsfelder, die eine Kombination der elektronischen Komponenten mit optischen Filtern zum Ziel haben, rücken vermehrt in den Fokus.
