Das Verlustfaktorverhalten von dotierten Silberhalogeniden wird durch Bestrahlung und verschiedene thermische Behandlung beeinflußt. Auf diesem Wege werden wichtige Vorgänge des photographischen Grundprozesses, die sich einer Feststellung auf optischem Wege entziehen, der Beobachtung zugänglich gemacht.

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2 Die oberen Indizes Punkt und Strich zeigen positive und negative Überschußladung gegenüber dem Gitter an, die unteren Indizes G, Kreis und Quadrat Einbau auf Gitterplatz, Zwischengitterplatz und einer Leerstelle.
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14 Streng müßten zwei Werte von s unterschieden werden, da die beiden Gleichgewichtslagen allgemein nicht den gleichen Abstand von der Schwelle haben.
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15 Dort steht als einziger Unterschied im Nenner der Relaxationszeit noch zusätzlich ein Faktor 2, da in jenem Mechanismus der Sprung von einem Platz zum anderen auf zwei Wegen je mit der Wahrscheinlichkeit w₂ realisiert werden konnte.
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Volume464, Issue3-4

1962

Pages 196-211

Veränderungen von Fehlstellendipolen in Silberhalogeniden mit zweiwertigen Anionenzusätzen

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